磁控濺射鍍膜機是物理氣相沉積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，而上世紀70年代發(fā)展起來的磁控濺射法更是實現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。一、原理：磁控濺射的工作原理是指電子在電場E的作用下，在飛向基片過程中與氬原子發(fā)生碰撞，使其電離產(chǎn)生出Ar正離子和新的電子...

球磨測厚儀允許用戶從10nm到250μm分析光學圖層厚度，用戶可以觀察到一副圖層厚度分辨率達到0.1nm的單圖，根據(jù)用戶選擇的軟件，用戶可以分析單圖層或者小于二分之一的多圖層，并且可以測量圖層厚度和半導體加工影像或者增透涂料。球磨測厚儀分析單一或者多層，分辨率到0.1nm，適用于原地，在線測量厚度，兩個共同的通道用來測量膜層特征，光譜反射/傳播和橢圓偏光，利用反射原理來測量入射光到達樣品表面后從薄膜反射過來的波段。很多圖層可以被認定是一個薄膜的堆積，很多的薄膜和基地原料都能被...

快速化學淬滅系統(tǒng)在液液混合裝置、細胞收集裝置和電磁反饋控制裝置共同作用下，細胞培養(yǎng)液與低溫細胞淬滅溶液得到充分混合，且細胞可瞬間降至低溫，有效抑制酶活力、代謝淬滅*，引入電磁反饋控制裝置和真空泵使終點的淬滅溶劑濃度可控，實現(xiàn)細胞培養(yǎng)液與低溫細胞淬滅溶液體積比的準確控制，使胞內(nèi)代謝物數(shù)據(jù)真實可靠，各裝置之間相輔相成，實現(xiàn)對細胞進行及時、*代謝淬滅。快速化學淬滅系統(tǒng)采用上述系統(tǒng)進行代謝淬滅的方法，簡單易行，準確率高，為微生物、動物以及植物細胞的胞內(nèi)代謝物研究提供技術支持。熒光淬滅...

深能級瞬態(tài)譜儀集成多種自動的測量模式及全面的數(shù)據(jù)分析，可以確定雜質的類型、含量以及隨深度的分布，也可用于光伏太陽能電池領域中，分析少子壽命和轉化效率衰減的關鍵性雜質元素和雜質元素的晶格占位，確定是何種摻雜元素和何種元素占位影響少子壽命。該儀器測量界面態(tài)速度快，精度高，是生產(chǎn)和科研中可廣為應用的測試技術。隨著電腦技術的發(fā)展，使得在短時間內(nèi)進行復雜計算成為可能，在純指數(shù)發(fā)射過程模型的基礎上，用各種數(shù)學模型分析測量到的瞬態(tài)過程，如傅里葉轉換、拉普拉斯轉換、多指數(shù)瞬態(tài)擬合、ITS（等...

快速動力學停流裝置使用過程安全可靠快速動力學停流裝置與光譜儀器配合進行快速動力學瞬間實時記錄，或離線分析，為廣大的快速動力學研究學者提供了強有力的武器。快速動力學停流裝置恒溫水夾套設計，全電腦控制操作，程控驅動注射器，每路樣品流量可調，不受濃度與粘度影響，高精度，*可調的混合與稀釋比例，二路、三路、四路流動注射停流裝置可選擇，及光纖已經(jīng)包含，熒光部分（熒光滴定及特異性研究），其它快速動力學瞬間實時記錄功能是一致的。快速動力學停流裝置為樣品經(jīng)濟性設定了新的標準，只需要120微升...

快速動力學停流裝置與光譜儀器配合進行快速動力學瞬間實時記錄，或離線分析，為廣大的快速動力學研究學者提供了強有力的武器。快速動力學停流裝置恒溫水夾套設計，全電腦控制操作，程控驅動注射器，每路樣品流量可調，不受濃度與粘度影響，高精度，*可調的混合與稀釋比例，二路、三路、四路流動注射停流裝置可選擇。快速動力學停流裝置的核心是一個緊湊的，采樣處理單元與一個堅固的流動電路建立在一個固體歧管與緊密耦合閥，從而避免脆弱的長度油管。樣品的流動電路兼容廣泛的試劑和溶劑，樣品處理單元的主體是不銹...