快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)保證其優(yōu)良的強(qiáng)度性能

   快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)在液液混合裝置、細(xì)胞收集裝置和電磁反饋控制裝置共同作用下，細(xì)胞培養(yǎng)液與低溫細(xì)胞淬滅溶液得到充分混合，且細(xì)胞可瞬間降至低溫，有效抑制酶活力、代謝淬滅*，引入電磁反饋控制裝置和真空泵使終點(diǎn)的淬滅溶劑濃度可控，實(shí)現(xiàn)細(xì)胞培養(yǎng)液與低溫細(xì)胞淬滅溶液體積比的準(zhǔn)確控制，使胞內(nèi)代謝物數(shù)據(jù)真實(shí)可靠，各裝置之間相輔相成，實(shí)現(xiàn)對細(xì)胞進(jìn)行及時(shí)、*代謝淬滅。

   快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)采用上述系統(tǒng)進(jìn)行代謝淬滅的方法，簡單易行，準(zhǔn)確率高，為微生物、動(dòng)物以及植物細(xì)胞的胞內(nèi)代謝物研究提供技術(shù)支持。熒光淬滅是指熒光分子由內(nèi)部因素和外部因素同時(shí)作用造成的不可逆破壞，內(nèi)部因素主要是分子從激發(fā)態(tài)回到基態(tài)以非輻射躍遷形式釋放能量，外部因素則包含多方面。

   光照射是致熒光淬滅的常見原因，熒光的產(chǎn)生需要光照射，但同時(shí)光照射也會(huì)促進(jìn)激發(fā)態(tài)分子與其他分子相互作用而引起碰撞，使熒光淬滅；標(biāo)記樣品的熒光淬滅是在熒光顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡觀察時(shí)遇到的主要問題。快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)具有更強(qiáng)的功率和聚焦更準(zhǔn)確的光束，與普通熒光顯微鏡相比，標(biāo)本的光漂白作用更為明顯，熒光素的熒光可在連續(xù)觀察過程中逐漸減弱或消失。

   快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)電路采用相同的結(jié)構(gòu)框架，結(jié)合主動(dòng)、門控兩種淬滅方式，通過電阻或電容感應(yīng)雪崩電流，采用基于失調(diào)控制的差分放大低閾值檢測電路，打破傳統(tǒng)設(shè)計(jì)中淬滅電路的檢測閾值必須大于MOS管開啟電壓的約束，實(shí)現(xiàn)對雪崩電流的快速檢測。

   快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)具有高增益、低功耗、小體積等特點(diǎn)，可以快速分辨并響應(yīng)單光子信號，現(xiàn)已被廣泛地應(yīng)用在單光子探測系統(tǒng)中。目前，單光子探測技術(shù)正在向集成大陣列方向發(fā)展，陣列的一致性探測成為重要性能指標(biāo)。對于擊穿電壓的非均勻性現(xiàn)象，快速化學(xué)淬滅系統(tǒng)的設(shè)計(jì)對單光子陣列探測系統(tǒng)的性能起著關(guān)鍵作用。