SpinCoater勻膠機是一種常用于薄膜制備的設備,廣泛應用于微電子、光電、材料科學等領域。它通過旋轉的方式將液態涂層均勻地涂布在基材表面,形成薄膜。本文將介紹其工作原理、操作方法以及應用領域。一、工作原理SpinCoater勻膠機的核心原理是旋轉施加離心力。在操作過程中,基材...
Palas®如何輔助影響天氣?Palas®與科學研究所并肩進行技術創新北京市人工影響天氣辦公室(北京市人影辦)負責北京地區人工影響天氣業務、科研和管理,日常主要業務包括為北京地區人工增雨、人工防雹等,曾為2008年北京奧運會等重大活動提供氣象保障。辦公室近期購置了定制的Palas®Promo®2000氣溶膠光譜儀。我們與來自人影辦的高級工程師進行了訪談,他從事大氣中云微物理過程的研究。本文將與您分享Palas®儀器與研究機構一同探索科研...
氣溶膠粒徑譜儀粉塵發生器采用均勻的氙燈白光源,氣溶膠粒子流經過光源,產生光散射效應,90度散射角進行檢測,軟件采用理論計算,得到粒徑大小的體積分布和個數分布,粒子計數和粒徑分布可以同時得到,互不干擾,這是高精度氣溶膠粒徑譜儀的重要要求。發生器技術解決了消除邊緣效應和重疊粒子計數,使高濃度氣溶膠粒徑測量和計數達到高精度測量。將粉末樣品裝入圓柱型存儲容器中,通過活塞輸送到旋轉刷,旋轉刷將準確輸送一定量的樣品到擴散頭,在擴散頭處,通過噴嘴的加速,氣流將被加速到180m/s的高速度,...
多功能磁控濺射儀采用高電壓二極直流濺射方式沉積薄膜,這種設計優點是結構簡單,但是缺點是容易造成能量集中,對于樣品有明顯的溫升效應的,采用磁控濺射手段,通過磁控陰極+直流電源方式對樣品噴金處理,有較低的離子轟擊損傷和溫升效應;另外還有操作簡單,觸控面板界面,一鍵式操作。主要特點:1,側面雙開門結構,便于裝片。2,*設計預濺射擋板,工藝控制簡便,節省時間。3,充氣和抽氣系統,有效鍍膜區寬。4,脈沖偏壓非平衡對靶中頻磁控濺射技術,鍍膜質量穩定。5,采用PLC工控機控制,可實現設備和...
磁控濺射鍍膜由真空鍍膜系統和真空手套箱系統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發鍍膜與手套箱組合,實現蒸鍍、封裝、測試等工藝全封閉制作,使整個薄膜生長和器件制備過程高度集成在一個完整的可控環境氛圍的系統中,消除有機大面積電路制備過程中大氣環境中不穩定因素影響,保障了高性能、大面積有機光電器件和電路的制備,用于制備各種金屬膜、半導體膜、介質膜、磁控膜、光學膜、超導膜、傳感膜以及各種特殊需求的功能薄膜...
球磨測厚儀可用于各行各業中各種塑料薄膜、橡膠、木材、紙板、金屬薄板等厚度的測量,主要用于金屬軋制行業各個領域對生產線上的產品,如鋼帶、銅帶、鋁帶、鋁箔等進行動態狀態下的厚度測量,可輸出厚度信號到系統,以實現厚度的閉環調節,具有不接觸被測物體、連續、快速、準確測量等優點。儀器簡單的球坑法是快速獲得所有涂層厚度的有效方法,適用單層和多層膜的涂層,利用X射線穿透被測材料時,X射線的強度的變化與材料的厚度相關的特性,從而測定材料的厚度,是一種非接觸式的動態計量儀器,它以PLC和工業計...
深能級瞬態譜儀通過監測半導體結在不同溫度下的脈沖產生的電容、電流或電荷瞬變,可產生每個深度級別的光譜,每個深能級都有一個峰值。峰的高度與陷阱密度成正比,其符號允許區分少數和多數陷阱,并且溫度軸上的峰的位置導致確定熱發射和俘獲(活化能和橫截面)的基本參數,該方法的應用導致了新現象的發現,并為理解半導體器件的材料加工提供了*的工具。儀器是半導體領域研究和檢測半導體雜質、缺陷深能級、界面態等的重要技術手段,測試根據半導體P-N結、金-半接觸結構肖特基結的瞬態電容技術和深能級瞬態譜的...
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