表面光電壓譜可以用來測定半導體的導電類型（特別是有機半導體的導電類型）、半導體表面參數，研究納米晶體材料的光電特性，了解半導體光激發電荷分離和電荷轉移過程，實現半導體的譜帶解釋，并為研究符合體系的光敏過程和光致界面電荷轉移過程提供可行性方法。光譜研究光生載流子反應動力學，半導體受激光激發后產生載流子，在其衰減過程中可發生一系列的變化和反應，時間分辨紫外可見吸收光譜可監測其隨時間變化，確定載流子的檢測波長，光生電子和空穴的特征吸收波長可調控電極一種載流子濃度而測量另一種載流子的...

多功能磁控濺射儀在單個陰極靶系統中，與脈沖磁控濺射有同樣的釋放電荷、防止打弧作用，適用于高分辨掃描電鏡及聚焦離子束掃描電鏡樣品的噴金以及樣品等離子體清洗等多種用途。儀器實現磁控濺射噴金，獲得更為細膩的金膜，以滿足高分辨掃描電鏡等樣品處理，同時具備射頻離子源實現樣品清洗，高效、低等離子體轟擊損傷，核心部件采用無油分子泵組，靜音、無需操心真空系統和操作間環境泵油污染，保證設備具有優異的質量與穩定可靠性，觸摸屏界面操作，即插即用。該設備是一款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小...

磁控濺射鍍膜機在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向。另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質量，同時，經過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。射頻磁控濺射相對于直流磁控濺射的主要優點是，它不要求作為電...

快速化學淬滅系統是多路混合停流裝置，淬滅裝置，快速混合溫度突變等裝置系統，產品設計解決您快速動力學應用中的需要，自動濃度依賴性實驗研究以及兩路混合實驗研究，標準停流配置適用所有光學模式：吸收，熒光，圓二色，熒光各向異性光譜等測定。比色池多樣性，可擴展溫度適用范圍，可更換SFM附件，應用于：化學淬滅，光學淬滅以及光學延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，EPR停流，低溫停流，自動滴定，停流電導，快速混合溫度突變系統，微重力實驗研究等。儀器有外部信號輸入通道，同步16位...

快速動力學停流裝置與光譜儀器配合進行快速動力學瞬間實時記錄，或離線分析，為廣大的快速動力學研究學者提供了保障。裝置可進行平板邊界層氣流實驗，紊流射流實驗，圓柱壓力分布測量及饒流阻力實驗，動量法測量機翼阻力實驗及表面壓強分布實驗；為小型風洞式，實驗段為組裝式結構，各試件相互輪換實驗組裝方便。停流裝置配有多管傾斜式調平測壓計，不銹鋼畢托管，電鍍平板試件及有機玻璃風道、有機玻璃圓柱試件及有機玻璃風道、電鍍噴嘴試件及有機玻璃風道、有機玻璃機翼試件及有機玻璃風道，低噪音多翼式離心風機，...

皮可安培計通過使所有的在輸入附近的點的電位都變得和輸入一樣就可以做到了，這樣的話輸入的電位其實是虛接地的，通過接地就可以阻止任何在正負15V輸入端之間和反相輸入求和點上的雜散泄露電流。半機架外殼皮安培計/源通道，允許在兩個通道同時進行6位測量，使其它高速通道密度密度增加了兩倍，相比有備選的單通道皮安培計/源通道組合，可以實現簡便控制和數據聚合、擁有低成本、高測量精度和寬動態范圍，用戶在每個通道上讀取900次讀數/秒。皮可安培計是高性價比電流測試儀器，它具有的分辨率與高靈敏度，...