反應離子刻蝕設備（美國產，高性價比） -聚合物或光阻的等溫各向同性干刻 -硅片或玻璃表面清潔 -硅表面氧化去除

電子束蒸發鍍膜系統 熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD、等離子增強化學氣相淀積系統PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強化學氣相沉積、離子泵等；

磁控濺射鍍膜系統 專業的沉積設備制造商，為各個領域的客戶提供完善的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發系統、熱蒸發系統、超高真空蒸發系統、分子束外延MBE、有機分子束沉積OMBD

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脈沖激光沉積鍍膜系統（PLD） 靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成新材料

基質輔助脈沖激光沉積鍍膜系統The polymer material will then deposit on the substrate while the solvent will be pumped away （if you choose the correct solvent）.