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離子束刻蝕設備

簡要描述:離子束刻蝕設備
離子拋光
離子清洗
等離子體灰化
等離子體氧化、氮化
表面改性
反應刻蝕
生物醫藥
傳感器

  • 產品型號:
  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-02-27
  • 訪  問  量:2013

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域電子/電池,電氣,綜合

離子束刻蝕設備

儀器應用:
離子拋光
離子清洗
等離子體灰化
等離子體氧化、氮化
表面改性
反應刻蝕
生物醫藥
傳感器


離子束刻蝕設備技術參數:
1,真空系統:
尺寸: 72英寸X 50英寸
真空泵:分子泵+機械泵
本底真空:1X10E-7Torr
2, 樣品臺:
樣品大?。?50mm
處理角度:0-180度
旋轉速度:0-20RPM
冷卻:水冷
3, 離子源
孔徑:22厘米
柵格:2個,鉬材質
激發:RF射頻
電性中和:PBN
束流: 200-1000V, 0-1000mA
工作氣體:Ar,Xe,N2,O2,CF4,SF6,CH4,C2H6
SIMS終點監測

主要特點:
RF or DC 離子源, 8-22厘米Gridded Kaufman離子源
單片樣品傳輸腔
高效率高產量,低能量等離子體源
最大直徑至150毫米樣品表面處理
<3% 非均勻性
水冷,傾斜,旋轉
操作簡便,小型設備,皮實耐用
SIMS終點監測
全部電腦操作
反應離子刻蝕
單片樣品臺/三片行星式旋轉樣品臺


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