納米壓印系統-光刻機 介紹了一個臺式、獨立的納米壓印平臺。該平臺提供了一個帶有微型定位夾具的機械平臺，用于安裝納米壓印室、紫外線固化

硅穿孔工藝設備-光刻機 晶圓和晶圓之間制作垂直導通，實現芯片之間互連的新技術。能夠使芯片在三維方向堆疊的密度大，芯片之間的互連線短，外形尺寸小，并且大大改善芯片速度和低功耗的性能，使目前電子封裝技術中引人注目的新技術。

狹縫擠壓型涂布儀-勻膠機 狹縫擠壓型涂布儀夾縫式擠壓型涂布儀（Slot Die Coater）可以用于可復制重復性測試。歸功于桌面小型化的設計。它也可以大幅降低材料損耗。客戶通過快速的多樣化測試來獲得更多客觀結果。

無掩膜曝光機-光刻機 美國IMP（Intelligent Micro Patterning,LLC）公司憑借多年的光刻設備生產經驗和多項無掩模曝光技術，已成為無掩模紫外光刻領域的。國內參考用戶較多！

勻膠機、旋涂儀（德國產、高性能）SPIN150i單片勻膠機/旋涂儀具有廣泛應用，包括 甩干，沖洗，清潔，涂膠。臺式設計，無縫全塑料材質， 有天然聚丙烯（NPP）和聚四氟乙烯材質（PTFE）可選。有各種吸盤，適合樣品襯底5mm--?160mm （or 6”） or 4“x4“. 更大尺寸均有！！

顯影機-勻膠機 顯影機 /濕法刻蝕機德國品質（配有防污染內襯，標配兩個大小吸盤，性能優于美國同類品牌） 高精度，高可靠性，耐腐蝕，來源德國，多程序控制。

光刻機/紫外曝光機 該公司是目前世界上早將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力；并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用；以優秀的技術、精妙的工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。

勻膠機其工作原理是高速旋轉基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同, 也和旋轉速度及時間有關。