有關快速化學淬滅系統的原理及應用

　　比色池多樣性，可擴展溫度適用范圍，可更換SFM附件，應用于：化學淬滅，光學淬滅以及光學延時，冷凍淬滅，X-射線散射停流，中子色散停流，EPR停流，低溫停流，自動滴定，停流電導，快速混合溫度突變系統，微重力實驗研究等。

　　因為有的化學反應某一反應物是過量的，當反應進行到一定程度，目標產物已經獲得，該過量反應物繼續存在的話會進一步反應生成不希望的產物，所以需要淬滅，淬滅的原理是用另一種更易與該過量化合物反應的化合物與之反應，從而將其從體系中除去。

　　快速化學淬滅系統原理：用另一種更易與該過量化合物反應的化合物與之反應，從而將其從體系中除去。淬滅的類型有熒光淬滅和化學淬滅，熒光淬滅是指用熒光熄滅劑如鹵素離子、重金屬離子、硝基化合物、重氮化合物、羰基化合物等與熒光物質作用，引起熒光強度降低；化學淬滅就是用一些方法將過量物質消耗掉。

　　總體來說，有機合成反應中還有很多淬滅劑，在選擇淬滅劑時要充分考慮到產物的穩定性以及后處理的難易程度，如果淬滅過程大量放熱，還需要冷卻下進行。